Intel hat auf dem Weg zu immer kleineren Bausteinen in der Chipproduktion nach eigenen Angaben einen “bedeutenden Meilenstein” erreicht. Der Chiphersteller hat die weltweit erste kommerzielle Anlage in Betrieb genommen, die kleinste Strukturen auf den Chips mit so genanntem extremen ultravioletten Licht (EUV-Lithographie) herstellen kann, teilte das Unternehmen am Montag mit.
“Die EUV-Technik wird uns helfen, auch im kommenden Jahrzehnt von den Vorteilen des Moore’schen Gesetzes profitieren zu können”, sagte Intel-Forscher Ken David. Das nach dem Intel-Mitbegründer Gordon Moore benannte Gesetz besagt, dass die Leistung von Computerchips alle 18 bis 24 Monate verdoppelt wird.
In einer Pilotanlage will Intel mit der bislang nur in Forschungslabors getesteten EUV-Lithographie Masken zur Chipproduktion herstellen. Da die Microchips immer kleiner werden, muss auch die Lithographie für die auf den Chips aufgebrachten Strukturen immer feiner werden. Vergleichbar mit einem Maler, der einen dünnen Pinsel für das Malen feiner Linien benötigt, setzen die Chiphersteller für die Belichtung der Chips zunehmend kürzere Wellenlängen ein. Dabei stoßen die Forscher zunächst immer wieder an physikalische Grenzen.
Im Vergleich zu heute eingesetzten Verfahren mit Licht der Wellenlänge 193 Nanometer besitzt EUV-Licht nur noch eine Wellenlänge von 13,5 Nanometern. Ein Nanometer ist ein millionstel Millimeter. Derzeit haben die kleinsten Strukturen, die in Intels Fertigungsanlagen hergestellt werden, eine Größe von 50 Nanometern. Das Verfahren soll im Jahr 2009 reif für die Massenfertigung sein. Bis dahin sollen mögliche Fehlerquellen zum Beispiel beim Bedrucken der Chips beseitigt sowie das Verfahren und die eingesetzten Materialien optimiert werden.