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Intel überspringt nächste Chipfertigungstechnologie

27.05.2003 | 12:22 Uhr |

Der Chiphersteller Intel wird laut US-Medienberichten keine Geräte für die 157-Nanometer-Lithografie zur Produktion von 45-Nanometer-Strukturen anschaffen. Stattdessen will das Unternehmen die nächste Technologie-Generation überspringen und seine bestehenden Produktionsanlagen mit der "Extrem Ultraviolett"-Technologie (EUV) aufrüsten und dadurch länger nutzen.

Der Chiphersteller Intel wird laut US-Medienberichten keine Geräte für die 157-Nanometer-Lithografie zur Produktion von 45-Nanometer-Strukturen anschaffen. Stattdessen will das Unternehmen die nächste Technologie-Generation überspringen und seine bestehenden Produktionsanlagen mit der "Extrem Ultraviolett"-Technologie (EUV), einem speziellen Linsensystem, aufrüsten und dadurch länger nutzen.

Die Anlagen von Intel arbeiten mit einer Wellenlänge von 193 Nanometern. Mittels eines optischen Verfahrens werden die Strukturen von Chip auf dem Trägermaterial aus Silizium abgelichtet. Je feiner die Strukturen sind, um so kürzer muss auch die Wellenlänge des Lichts sein.

Wie die US-Branchendienst EE Times berichtet, könnte Intels Ausstieg aus der 157-Nanometer-Lithografie weitreichende Folgen für die Halbleiterindustrie haben. Die Kosten für die Entwicklung der nächsten Halbleitergeneration sind hoch und viele, zumeist kleine Unternehmen, können diese Kosten nicht alleine tragen. Im Gegensatz zu Intel können diese Unternehmen auch nicht auf die teuere EUV-Technologie ausweichen. Es ist bereits jetzt die Rede davon, dass Intels Entscheidung das Ende für die 157-Nanometer-Technologie bedeuten könnte.

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